Η διαδικασία κατασκευής του ηλιακού πάνελ (2)

(5) Περιφερική χάραξη( ηλιακά πάνελ): το στρώμα διάχυσης που σχηματίζεται στην περιφερειακή επιφάνεια του πλακιδίου πυριτίου κατά τη διάχυση θα βραχυκυκλώσει το πάνω και το κάτω ηλεκτρόδιο της μπαταρίας. Το περιφερειακό στρώμα διάχυσης πρέπει να αφαιρείται με κάλυψη υγρής χάραξης ή ξηρής χάραξης πλάσματος.

(6) Αφαιρέστε την πίσω διασταύρωση PN(ηλιακά πάνελ). Η μέθοδος υγρής χάραξης ή λείανσης χρησιμοποιείται συνήθως για την αφαίρεση της οπίσθιας διασταύρωσης PN.

(7) Κατασκευή άνω και κάτω ηλεκτροδίων(ηλιακά πάνελ): χρησιμοποιείται εξάτμιση υπό κενό, ηλεκτρολυτική επινικελίωση ή εκτύπωση και πυροσυσσωμάτωση με πάστα αλουμινίου. Κατασκευάζεται πρώτα το κάτω ηλεκτρόδιο και μετά κατασκευάζεται το άνω ηλεκτρόδιο. Η εκτύπωση πάστας αλουμινίου είναι μια ευρέως χρησιμοποιούμενη μέθοδος διαδικασίας.

(8) Κατασκευή αντιανακλαστικής μεμβράνης(ηλιακά πάνελ): για να μειωθεί η απώλεια ανάκλασης εισόδου, ένα στρώμα αντιανακλαστικής μεμβράνης πρέπει να καλύπτεται στην επιφάνεια του πλακιδίου πυριτίου. Τα υλικά για την κατασκευή αντιανακλαστικού φιλμ περιλαμβάνουν MgF2, SiO2, Al2O3, SiO, Si3N4, TiO2, Ta2O5, κ.λπ. οι μέθοδοι διαδικασίας μπορεί να είναι μέθοδος επίστρωσης υπό κενό, μέθοδος επίστρωσης ιόντων, μέθοδος ψεκασμού, μέθοδος εκτύπωσης, μέθοδος PECVD ή μέθοδος ψεκασμού.

(9) Πυροσυσσωμάτωση: το τσιπ της μπαταρίας συντήκεται στην πλάκα βάσης από νικέλιο ή χαλκό.

(10) Ταξινόμηση δοκιμής: ταξινόμηση δοκιμής σύμφωνα με τις καθορισμένες παραμέτρους και προδιαγραφές.